半導體超純水說明

半導體超純水說明主要用于生產超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準。

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半導體超純水設備

半導體超純水設備主要用于生產超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準。

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TOC超純水

TOC超純水指需電子行業用水，其水中要去除細菌、泥沙、膠體、懸浮物、金屬這些導電雜質。其電阻率≥18MΩ/cm（25℃，EW-I）。

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半導體超純水介紹

半導體超純水介紹主要用于生產超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準。

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半導體超純水

半導體超純水主要用于生產超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準。

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TOC超純水設備

TOC超純水設備指需電子行業用水，其水中要去除細菌、泥沙、膠體、懸浮物、金屬這些導電雜質。其電阻率≥18MΩ/cm（25℃，EW-I）。

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